Tokyo Tech Research Repository (T2R2)

Patent Information

Title

化合物半導体薄膜形成用インクの製造方法

Author

Kind

Patent

Status

Registered

Applicant

国立大学法人東京工業大学, 凸版印刷株式会社.

Filing Date

2012/09/25

Application Number

特願2013-536276

Unexamined Application Date

2015/03/26

Publication Number

特開（再表）2013/047461

Registration Date

2016/07/15

Registration Number

特許第5967837号

©2007 Tokyo Institute of Technology All rights reserved.