【重要】T2R2・STARSearchの停止と後継システムについて English

Home > ヘルプ 特許情報 発明の名称 高分子成形体及びその表面改質処理方法  発明者 高田十志和, 小山靖人, WangChenGang, 瀬尾　明繁, 今井　英幸.   種別 特許   状態 登録   出願人 国立大学法人東京工業大学, 豊田合成株式会社.   出願日 2012/04/18 出願番号 特願2012-094666 公開日 2013/10/28 公開番号 特開2013-221115 登録日 2016/03/04 登録番号 特許第5892843号

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