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特許情報


発明の名称
液体処理装置および液体処理方法 
発明者
小畠英理, 石川　陽一　, 正田　誠, 濱本　修, 杉浦　公昭, 杉山　洋一, 瀬野　比呂司, 久芳　良則.  
種別
特許 
状態
公開 
出願人
国立大学法人東京工業大学, 三井造船株式会社, エイブル株式会社.  
出願日
2012/07/26
出願番号
特願2012-165433
公開日
2014/02/06
公開番号
特開2014-024000

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