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特許情報


発明の名称
シリコン系薄膜及びその製造方法 
発明者
舟窪浩, 黒川満央, 倉持　豪人, 召田　雅実.  
種別
特許 
状態
登録 
出願人
国立大学法人東京工業大学, 東ソー株式会社.  
出願日
2018/03/30
出願番号
特願2018-068515
公開日
2018/11/08
公開番号
特開2018-174325
登録日
2022/05/19
登録番号
特許第7076096号

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