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特許情報


発明の名称
エピタキシャルシリコン薄膜の製造に用いられるシリコン基板及びその製造方法 
発明者
伊原学, 長谷川馨, 高澤千明, 松浦明.  
種別
特許 
状態
公開 
出願人
国立大学法人東京工業大学.  
出願日
2018/09/05
出願番号
特願2019-540973
公開日
2020/11/12
公開番号
再表2019/049876

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