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特許情報


発明の名称
アルカリ土類金属酸化物の半導体膜、半導体デバイス、及び半導体膜の作製方法 
発明者
片瀬貴義, 神谷利夫, 細野秀雄.  
種別
特許 
状態
公開 
出願人
国立大学法人東京工業大学.  
出願日
2022/01/21
出願番号
特願2022-008130
公開日
2023/08/02
公開番号
特開2023-107040

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