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特許情報


発明の名称
ブロックコポリマー、下地剤、相分離構造形成用組成物成用樹脂組成物、 及び相分離構造を含む構造体の製造方法 
発明者
早川晃鏡, 前川伸祐, 水嵜陸, 上原　卓也, 太宰　尚宏　.  
種別
特許 
状態
公開 
出願人
国立大学法人東京科学大学, 東京応化工業株式会社.  
出願日
2023/06/22
出願番号
特願2023-102848
公開日
2025/01/09
公開番号
特開2025-002574

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