発明者,発明の名称,種別,状態,出願人,出願日,出願番号,公開日,公開番号,登録日,登録番号
"宮島晋介,山田明,小松　武志　,小野　陽子","シリコン電極とその製造方法","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, 日本電信電話株式会社","2017/06/22","特願2017-122170","2019/01/17","特開2019-007039","特許第6865435号","2021/04/08"
"宮島晋介,山田明,小松　武志,小野　陽子","光触媒装置および光触媒反応装置","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 日本電信電話株式会社","2016/06/16","特願2016-119573","2017/12/21","特開2017-221911",,
"山田明,張　毅聞,佐竹　哲夫,古田　薫,殷　明","光吸収層、化合物薄膜太陽電池、光吸収層の製造方法、および、化合物薄膜太陽電池の製造方法","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 凸版印刷株式会社","2016/03/30","特願2016-069418","2017/10/05","特開2017-183549",,
"山田明,張　毅聞,殷　明","化合物薄膜太陽電池、化合物薄膜太陽電池の製造方法、および、光吸収層","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 凸版印刷株式会社","2015/07/24","特願2016-536001","2017/04/27","再表2016/013670",,
"山田明,張　毅聞　,殷　明　","化合物薄膜太陽電池、および、化合物薄膜太陽電池の製造方法","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 凸版印刷株式会社","2014/03/31","特願2014-074195","2015/11/09","特開2015-198126",,
"山田明,張　毅聞　,殷　明　","化合物薄膜太陽電池、および、化合物薄膜太陽電池の製造方法","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 凸版印刷株式会社","2013/09/30","特願2013-205559","2015/04/13","特開2015-070219",,
"山田明,張　毅聞,和田　隆博","化合物半導体薄膜の作製方法およびその化合物半導体薄膜を備える太陽電池","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 凸版印刷株式会社, 学校法人龍谷大学","2013/05/28","特願2014-518684","2016/01/21","再表2013/180137",,
"山田明,張　毅聞","化合物半導体薄膜、その製造方法、および太陽電池モジュール","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 凸版印刷株式会社","2013/02/28","特願2013-039541","2014/09/11","特開2014-167998",,
"山田明,張　毅聞","化合物半導体薄膜形成用インクの製造方法","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, 凸版印刷株式会社","2012/09/25","特願2013-536276","2015/03/26","特開（再表）2013/047461","特許第5967837号","2016/07/15"
"山田明,黒川康良,加藤　慎也,太田　最実,丹羽　勇介,福本　貴文","太陽電池およびその製造方法","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 日産自動車株式会社","2012/06/04","特願2012-127359","2013/01/24","特開2013-016787",,
"山田明,平田　宜宏,大釜　信治","カルコパイライト型太陽電池素子におけるバッファ層の製造方法","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 堺化学工業株式会社","2012/03/06","特願2012-049846","2013/09/19","特開2013-187265",,
"山田明,和田　隆博,山添　誠司","化合物半導体薄膜の製造方法、太陽電池および化合物半導体薄膜製造装置","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 学校法人龍谷大学","2010/09/03","特願2010-198000","2011/09/22","特開2011-187920",,
"山田明,張　毅聞","化合物半導体薄膜作製用インク、そのインクを用いて得た化合物半導体薄膜、その化合物半導体薄膜を備える太陽電池、及びその太陽電池の製造方法","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 凸版印刷株式会社","2009/11/06","特願2009-255351","2011/05/19","特開2011-099059",,
"山田明,和田　隆博","化合物半導体薄膜の製造方法、太陽電池および化合物半導体薄膜製造用塗布剤","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 学校法人龍谷大学","2009/02/02","特願2009-021139","2010/08/12","特開2010-177606",,