LaO<sub>x</sub>/YO<sub>x</sub>/Si界面組成遷移層の化学結合状態の熱処理依存性

Publication Information

Title

Japanese:	LaO_x/YO_x/Si界面組成遷移層の化学結合状態の熱処理依存性
English:

Author

Japanese:	吉田徹史, 松田徹, 岡本英介, 品川盛治, 野平博司, 中川健太郎, 黒木裕介, 宮内邦裕, 大見俊一郎, 岩井洋, 池永英司, 高田恭孝, 小林啓介, 服部健雄.
English:	吉田徹史, 松田徹, 岡本英介, 品川盛治, 野平博司, 中川健太郎, 黒木裕介, 宮内邦裕, 大見俊一郎, 岩井洋, 池永英司, 高田恭孝, 小林啓介, 服部健雄.

Language

Japanese

Journal/Book name

Japanese:	第52回応用物理学関係連合講演会講演予稿集
English:

Volume, Number, Page

Vol. 2 pp. 918

Published date

2005

Publisher

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Conference name

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Conference site

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