MOCVD法による磁性および誘電性セラミックス薄膜の合成と性質に関する研究 | Science Tokyo Research Repository (T2R2)

Publication Information

Title

Japanese:	MOCVD法による磁性および誘電性セラミックス薄膜の合成と性質に関する研究
English:	MOCVD法による磁性および誘電性セラミックス薄膜の合成と性質に関する研究

Author

Japanese:	舟窪浩.
English:	HIROSHI FUNAKUBO.

Type

Type:	Thesis (Ph.D.)
Country:

Language

Organization name

東京工業大学

Report number

Conferred date

1994/--/--

Judge

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