Al(CH3)3を原料とするMOCVD法によるAl2O3薄膜の製膜過程

Publication Information

Title

Japanese:	Al(CH₃)₃を原料とするMOCVD法によるAl₂O₃薄膜の製膜過程
English:	Growth process of Al₂O₃ thin films deposited by MOCVD using Al(CH₃)₃

Author

Japanese:	田中敦, 宇津木貴太, 石崎超矢, 西山昭雄, 塩田忠, 櫻井修, 篠崎和夫, 脇谷尚樹.
English:	Atsushi Tanaka, Takahiro Utsugi, Noriya Ishizaki, Akio Nishiyama, Tadashi Shiota, Osamu Sakurai, Kazuo Shinozaki, Naoki Wakiya.

Language

Japanese

Journal/Book name

Japanese:	日本セラミックス協会第29回関東支部研究発表会予稿集
English:

Volume, Number, Page

2A04

Published date

Sept. 11, 2013

Publisher

Japanese:
English:

Conference name

Japanese:	日本セラミックス協会第29回関東支部研究発表会
English:

Conference site

Japanese:	埼玉県
English: