Al(CH3)3を原料とするMOCVD法によるα−Al2O3薄膜の製膜条件の最適化

Publication Information

Title

Japanese:	Al(CH3)3を原料とするMOCVD法によるα−Al2O3薄膜の製膜条件の最適化
English:

Author

Japanese:	田中敦, 宇津木貴太, 西山昭雄, 脇谷尚樹, 塩田忠, 櫻井修, 篠崎和夫.
English:	Atsushi Tanaka, Takahiro Utsugi, Akio Nishiyama, naoki wakiya, Tadashi SHIOTA, osamu sakurai, KAZUO SHINOZAKI.

Language

Japanese

Journal/Book name

Japanese:	日本セラミックス協会2014年年会講演予稿集
English:

Volume, Number, Page

2G28

Published date

Mar. 17, 2015

Publisher

Japanese:
English:

Conference name

Japanese:	日本セラミックス協会2014年年会
English:

Conference site

Japanese:
English:	横浜