(講演奨励賞受賞記念講演(招待)) 対向ターゲットスパッタ法によるi-a-Si:Hパッシベーション膜作製における基板温度の影響(5a-A204-11)

Publication Information

Title

Japanese:	(講演奨励賞受賞記念講演(招待)) 対向ターゲットスパッタ法によるi-a-Si:Hパッシベーション膜作製における基板温度の影響(5a-A204-11)
English:	(JSAP Young Scientist Award Speech) Influence of substrate temperature on the properties of i-a-Si:H passivation layer deposited by facing target sputtering(5a-A204-11)

Author

Japanese:	白取優大, ファリスアキラ, 中田和吉, 宮島晋介.
English:	Yuta Shiratori, Akira Faris, Kazuyoshi Nakada, Shinsuke Miyajima.

Language

Japanese

Journal/Book name

Japanese:
English:

Volume, Number, Page

Published date

Sept. 5, 2017

Publisher

Japanese:
English:

Conference name

Japanese:	第78回応用物理学会秋季学術講演会
English:	The 78th JSAP Autumn Meeting, 2017

Conference site

Japanese:	福岡
English:	Fukuoka