0-1二次計画法によるプロセスばらつきを考慮したモデルベースマスク補正手法

Publication Information

Title

Japanese:	0-1二次計画法によるプロセスばらつきを考慮したモデルベースマスク補正手法
English:	Process Variation-aware Model-based OPC using 0-1 Quadratic Programming

Author

Japanese:	東梨奈, 小平行秀, 松井知己, 高橋篤司, 児玉親亮, 野嶋茂樹.
English:	Rina Azuma, Yukihide Kohira, Tomomi Matsui, Atsushi Takahashi, Chikaaki Kodama, Shigeki Nojima.

Language

Japanese

Journal/Book name

Japanese:	電子情報通信学会技術研究報告 (VLD2018-70)
English:	IEICE Technical Report (VLD2018-70)

Volume, Number, Page

Vol. 118 No. 334 pp. 209-214

Published date

Dec. 2018

Publisher

Japanese:
English:

Conference name

Japanese:	VLSI設計技術研究会
English:	Technical Committee on VLSI Design Technologies

Conference site

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