トップゲートに自己整合したWOx S/Dを用いた30-50 nm膜厚WSe2バックチャネルpFET

Publication Information

Title

Japanese:	トップゲートに自己整合したWOx S/Dを用いた30-50 nm膜厚WSe2バックチャネルpFET
English:

Author

Japanese:	梶川亮介, 川那子高暢, 宗田伊理也, 星井拓也, 角嶋邦之, 筒井一生, 若林整.
English:	Ryosuke Kajikawa, Takamasa Kawanago, Iriya Muneta, Takuya Hoshii, Kuniyuki KAKUSHIMA, KAZUO TSUTSUI, Hitoshi Wakabayashi.

Language

Japanese

Journal/Book name

Japanese:
English:

Volume, Number, Page

Published date

Sept. 21, 2023

Publisher

Japanese:
English:

Conference name

Japanese:	第84回応用物理学会秋季学術講演会
English:	84th JSAP Autumn meeting

Conference site

Japanese:	熊本市
English:	Kumamoto