Photoabsorption, photoionization, and neutral-dissociation cross sections of SiF┣D24┫D2, SiCl┣D24┫D2, and Si(CH┣D23┫D2)┣D24┫D2 in the extreme-ultraviolet range

論文・著書情報

タイトル

和文:	極紫外領域におけるSiF┣D24┫D2,およびSi(CH┣D23┫D2)┣D24┫D2の光吸収断面積,光イオン化断面積,および中性解離断面積
英文:	Photoabsorption, photoionization, and neutral-dissociation cross sections of SiF┣D24┫D2, SiCl┣D24┫D2, and Si(CH┣D23┫D2)┣D24┫D2 in the extreme-ultraviolet range

著者

和文:	籏野嘉彦.
英文:	YOSHIHIKO HATANO.

言語

English

掲載誌/書名

和文:	化学物理学誌
英文:	Journal of Chemical Physics

巻, 号, ページ

Vol. 99 No. 4 pp. 2487-2494

出版年月

1993年

出版者

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会議名称

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開催地

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