Ultra Shallow p<sup>+</sup>/n Junctions Fabricated by Plasma Doping and All Solid State Laser Annealing

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Ultra Shallow p⁺/n Junctions Fabricated by Plasma Doping and All Solid State Laser Annealing

著者

和文:	Kazuo Tsutsui, Yuichiro Sasaki, Cheng-Guo Jin, Hideki Tamura, Bunji Mizuno, Ryota Higaki, Tkahisa Sato, Kenta Majima, Shun-ichiro Ohmi, Hiroshi Iwai.
英文:	Kazuo Tsutsui, Yuichiro Sasaki, Cheng-Guo Jin, Hideki Tamura, Bunji Mizuno, Ryota Higaki, Tkahisa Sato, Kenta Majima, Shun-ichiro Ohmi, Hiroshi Iwai.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Electrochemical Society Proceedings Advanced Short-Time Thermal Processing for Si- Based CMOS Devices II

巻, 号, ページ

Vol. 2004-01 pp. 106-111

出版年月

2004年

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文: