微結晶シリコン高速製膜条件におけるプラズマのガス温度計測

論文・著書情報

タイトル

和文:	微結晶シリコン高速製膜条件におけるプラズマのガス温度計測
英文:	Measurement of gas temperature in SiH4/H2 plasmas under conditions of high-rate μc-Si:H growth

著者

和文:	布村正太, 赤塚洋, 近藤道雄.
英文:	S. Nunomura, H. Akatsuka, M. Kondo.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	第６６回応用物理学会学術講演会　講演予稿集
英文:	Extended Abstracts (The 66th Autumn Meeting, 2005); The Japan Society of Applied Physics

巻, 号, ページ

pp. 360

出版年月

2005年9月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	第６６回応用物理学会学術講演会
英文:

開催地

和文:	徳島大学
英文: