ガスソースMBE法を用いた歪緩和Si<sub>1-y</sub>C<sub>y</sub>上への歪Siの作製 | T2R2 東京工業大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	ガスソースMBE法を用いた歪緩和Si_1-yC_y上への歪Siの作製
英文:

著者

和文:	石原英恵, 村野仁彦, 綿引達郎, 山田　明, 小長井　誠.
英文:	石原英恵, 村野仁彦, 綿引達郎, 山田　明, 小長井　誠.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	第66回応用物理学関係連合講演会
英文:

巻, 号, ページ

Vol. 8a-P5-9

出版年月

2005年9月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	第66回応用物理学関係連合講演会
英文:

開催地

和文:	徳島大学
英文:

©2007 Tokyo Institute of Technology All rights reserved.