ECR-Ar/N<sub>2</sub>プラズマにより形成したHfON膜の極薄膜化に関する検討 | T2R2 東京科学大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	ECR-Ar/N₂プラズマにより形成したHfON膜の極薄膜化に関する検討
英文:

著者

和文:	佐藤雅樹, 黒瀬朋紀, 大見俊一郎.
英文:	佐藤雅樹, 黒瀬朋紀, 大見俊一郎.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	電子情報通信学会技術研究報告
英文:

巻, 号, ページ

Vol. 105 No. 318 pp. 11－15

出版年月

2005年10月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	電子情報通信学会SDM研究会
英文:

開催地

和文:	東北大学
英文:

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