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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:A positive-working alkaline developable photoresist based on partially acetal-protected calix[4]methylresorcinarene and a photoacid generator 
著者
和文: 上田充.  
英文: mitsuru ueda.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文:ACS 
英文: 
巻, 号, ページ Vol. FD       
出版年月 2005年12月 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文: 
英文:Pasifi-Chem., 
開催地
和文: 
英文: 

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