A positive-working alkaline developable photoresist based on partially acetal-protected calix[4]methylresorcinarene and a photoacid generator

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	A positive-working alkaline developable photoresist based on partially acetal-protected calix[4]methylresorcinarene and a photoacid generator

著者

和文:	K. Shimakura, Y. Shibasaki, M. Ueda.
英文:	K. Shimakura, Y. Shibasaki, M. Ueda.

言語

English

掲載誌/書名

和文:	ACS
英文:

巻, 号, ページ

Vol. FD

出版年月

2005年12月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	Pasifi-Chem.,

開催地

和文:
英文: