Epitaxial Growth and Electrical Conductance of Metal(CoSi<sub>2</sub>)/Insulator(CaF<sub>2</sub>)Nanometer-Thick Layered Structure on Si(111)

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Epitaxial Growth and Electrical Conductance of Metal(CoSi₂)/Insulator(CaF₂)Nanometer-Thick Layered Structure on Si(111)

著者

和文:	渡辺正裕, S. Muratake, H. Fujimoto, S. Sakamori, M. Asada, 荒井滋久.
英文:	M. Watanabe, S. Muratake, H. Fujimoto, S. Sakamori, M. Asada, SHIGEHISA ARAI.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Jounal of Electronic Materials

巻, 号, ページ

Vol. 21 No. 8 pp. 783

出版年月

1992年

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

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