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論文・著書情報


タイトル
和文:シリコン基板の熱酸化機構 
英文:Mechanism of Thermal Oxidation of Silicon Substrates 
著者
和文: 須佐匡裕, 永田和宏, 後藤和弘.  
英文: Masahiro Susa, 永田和宏, 後藤和弘.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文:日本金属学会誌 
英文:Journal of the Japan Institute of Metals 
巻, 号, ページ Vol. 54    No. 1    pp. 33
出版年月 1990年 
出版者
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会議名称
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開催地
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