【重要】T2R2・STARSearchの停止と後継システムについて
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タイトル
和文:
赤外線レーザーの干渉照射を用いた射出成形品表面の分子配向層のパターン状制御に関する実験的検討
英文:
著者
和文:
佐藤 勲
, 斉藤卓志, 高柳秀樹.
英文:
佐藤 勲
, 斉藤卓志, 高柳秀樹.
言語
Japanese
掲載誌/書名
和文:
成形加工シンポジア'98
英文:
巻, 号, ページ
pp. 53-54
出版年月
1998年
出版者
和文:
英文:
会議名称
和文:
英文:
開催地
和文:
英文:
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