Chemical Vapor Deposition of Silicon Oxide Films Using Pulsed Dielectric Barrier discharge Plasma

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Chemical Vapor Deposition of Silicon Oxide Films Using Pulsed Dielectric Barrier discharge Plasma

著者

和文:	Ishimaru, K., Okazaki, K..
英文:	Ishimaru, K., Okazaki, K..

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	14th International Symposium on Plasma Chemistry

巻, 号, ページ

Vol. III pp. 1281-1286

出版年月

1999年

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文: