珪酸エチルを用いたリモートプラズマCVDによる高段差被覆性シリコン酸化膜の形成プロセス解析 | T2R2 東京工業大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	珪酸エチルを用いたリモートプラズマCVDによる高段差被覆性シリコン酸化膜の形成プロセス解析
英文:

著者

和文:	石丸和博, 岡崎健.
英文:	石丸和博, 岡崎健.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	Thermal Science and Engineering
英文:	Thermal Science and Engineering

巻, 号, ページ

Vol. 7 No. 5 pp. 11-20

出版年月

1999年

出版者

和文:
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会議名称

和文:
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開催地

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英文:

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