Wide Band Gap a-Si:H-Based High Gain Visicon Devices Prepared by Chemical Annealing

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Wide Band Gap a-Si:H-Based High Gain Visicon Devices Prepared by Chemical Annealing

著者

和文:	Wataru FUTAKO, Tatsuya SUGAWARA, Toshio KAMIYA, Charles Michael FORTMANN, Isamu SHIMIZU.
英文:	Wataru FUTAKO, Tatsuya SUGAWARA, Toshio KAMIYA, Charles Michael FORTMANN, Isamu SHIMIZU.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Mater. Res. Soc. Symp. Proc.

巻, 号, ページ

Vol. 507 pp. 357

出版年月

1998年

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

和文:
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