Decontamination Process Using CF4-O2 Microwave Discharge Plasma at Atmospheric Pressure

論文・著書情報

タイトル

和文:	大気圧CF4-02マイクロ波プラズマを用いた除染プロセス
英文:	Decontamination Process Using CF4-O2 Microwave Discharge Plasma at Atmospheric Pressure

著者

和文:	H.F. Windarto, T. Matsumoto, H. Akatsuka, M. Suzuki.
英文:	H.F. Windarto, T. Matsumoto, H. Akatsuka, M. Suzuki.

言語

English

掲載誌/書名

和文:	日本原子力学会英文誌
英文:	J. Nucl. Sci. Technol.

巻, 号, ページ

Vol. 37 No. 9 pp. 787

出版年月

2000年

出版者

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会議名称

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開催地

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