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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Improvement of transport properties for polycrystalline silicon prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition 
著者
和文: Toshio Kamiya, Atsushi Suemasu, Tadashi Watanabe, Toshiyuki Sameshima, Isamu Shimizu.  
英文: Toshio Kamiya, Atsushi Suemasu, Tadashi Watanabe, Toshiyuki Sameshima, Isamu Shimizu.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Appl. Phys. A 
巻, 号, ページ Vol. 73        pp. 151
出版年月 2001年 
出版者
和文: 
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会議名称
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開催地
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英文: 

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