Emission spectrochemical analysis in dry etching process of InP by Cl<sub>2</sub>- inductively coupled plasma

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Emission spectrochemical analysis in dry etching process of InP by Cl₂- inductively coupled plasma

著者

和文:	Akihiro Matsutani, Hideo Ohtsuki, Fumio Koyama, Kenichi Iga.
英文:	Akihiro Matsutani, Hideo Ohtsuki, Fumio Koyama, Kenichi Iga.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Jpn. J. Appl. Phys.

巻, 号, ページ

Vol. 39 No. 10 pp. 6109-6110

出版年月

2000年

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

和文:
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