High Deposition Rate of Polycrystalline Silicon Thin Films Prepared by Hot Wire Cell Method

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	High Deposition Rate of Polycrystalline Silicon Thin Films Prepared by Hot Wire Cell Method

著者

和文:	M. ICHIKAWA, Jun TAKESHITA, Akira YAMADA, Makoto KONAGAI.
英文:	M. ICHIKAWA, Jun TAKESHITA, Akira YAMADA, Makoto KONAGAI.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Jpn. J. Appl. Phys.

巻, 号, ページ

Vol. 38 pp. L124

出版年月

1999年

出版者

和文:
英文:

会議名称

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開催地

和文:
英文: