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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Ultra-thin gate SiO┣D22┫D2 technology 
著者
和文: 大見俊一郎.  
英文: SHUN-ICHIRO OHMI.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:THE PHYSICS AND CHEMISTRY OF SiO┣D22┫D2 AND THE Si-SiO┣D22┫D2 INTERFACE-4 
巻, 号, ページ Vol. PV2000    No. 2    pp. 3-18
出版年月 2000年 
出版者
和文: 
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会議名称
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開催地
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