アモルファスMo$<sub>{x}$Si$</sub>{1-x}$薄膜上における$^{4}$Heの吸着の磁場印加による効果III | T2R2 東京科学大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	アモルファスMo$_{x}$Si${1-x}$薄膜上における$^{4}$Heの吸着の磁場印加による効果III
英文:

著者

和文:	尾島邦明, 大熊　哲.
英文:	尾島邦明, 大熊　哲.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	日本物理学会第56回年次大会講演概要集
英文:

巻, 号, ページ

Vol. 55 No. 2 pp. 664$

出版年月

2001年

出版者

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会議名称

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開催地

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英文:

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