Y<sub>2</sub>O<sub>5</sub>-SiO<sub>2</sub>助剤を添加したホットプレスSiC焼結体の機械的性質と微構造観察 | T2R2 東京科学大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	Y₂O₅-SiO₂助剤を添加したホットプレスSiC焼結体の機械的性質と微構造観察
英文:

著者

和文:	井上博文, 片山恵一, 矢野豊彦, 今井雅三, Park Dae-Chul.
英文:	井上博文, 片山恵一, 矢野豊彦, 今井雅三, Park Dae-Chul.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	日本セラミックス協会第14回秋季シンポジウム講演予稿集
英文:

巻, 号, ページ

Vol. 2K02 pp. 154

出版年月

2001年

出版者

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会議名称

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開催地

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英文:

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