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論文・著書情報


タイトル
和文:high-kゲート絶縁膜技術の最新研究動向と将来展望 
英文: 
著者
和文: 岩井洋, 大見俊一郎.  
英文: 岩井洋, 大見俊一郎.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文:Semiconductor FPD World 
英文: 
巻, 号, ページ Vol. 20    No. 12    pp. 39-51
出版年月 2001年 
出版者
和文: 
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会議名称
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英文: 
開催地
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英文: 

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