Characterization of film Quality of Silicon Oxide Films by Remote Plasma CVD Using Dielectric Barrier Discharge from Tetraethylorthosillicate

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Characterization of film Quality of Silicon Oxide Films by Remote Plasma CVD Using Dielectric Barrier Discharge from Tetraethylorthosillicate

著者

和文:	Ishimaru, K., Okazaki, K..
英文:	Ishimaru, K., Okazaki, K..

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	15th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC-15)

巻, 号, ページ

Vol. V pp. 1787-1792

出版年月

2001年

出版者

和文:
英文:

会議名称

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開催地

和文:
英文: