MOCVD法におけるPbZrO<sub>3</sub>,PbTiO<sub>3</sub>薄膜の成膜におよぼす気相組成の影響 | T2R2 東京科学大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	MOCVD法におけるPbZrO₃,PbTiO₃薄膜の成膜におよぼす気相組成の影響
英文:

著者

和文:	大杉正樹, 岩崎彰則, 脇谷尚樹, 篠崎和夫, 水谷惟恭.
英文:	大杉正樹, 岩崎彰則, 脇谷尚樹, 篠崎和夫, 水谷惟恭.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	第14回日本セラミックス協会秋季シンポジウム講演予稿集
英文:

巻, 号, ページ

No. 1F21 pp. 52

出版年月

2001年

出版者

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会議名称

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開催地

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