ホットプレス法によるY<sub>2</sub>O<sub>3</sub>-SiO<sub>2</sub>添加SiC焼結体の作製と評価 | T2R2 東京科学大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	ホットプレス法によるY₂O₃-SiO₂添加SiC焼結体の作製と評価
英文:

著者

和文:	井上博文, 片山恵一, 矢野豊彦, 今井雅三, Park Dae-Chul.
英文:	井上博文, 片山恵一, 矢野豊彦, 今井雅三, Park Dae-Chul.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	日本セラミックス協会2002年年会講演予稿集
英文:

巻, 号, ページ

No. 1E41 pp. 60

出版年月

2002年

出版者

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会議名称

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開催地

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英文:

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