Room-temperature Epitaxial Growth of CeO┣D22┫D2 Thin Films on Si(111) Substrates for Fabrication of Sharp Oxide/Silicon Interface

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Room-temperature Epitaxial Growth of CeO┣D22┫D2 Thin Films on Si(111) Substrates for Fabrication of Sharp Oxide/Silicon Interface

著者

和文:	K.Shimozono, T.Maeda, T.Ohnishi, M.Kumagai, T.Chikyow, O.Ishiyama, M.Shinohara, H.Koinuma.
英文:	K.Shimozono, T.Maeda, T.Ohnishi, M.Kumagai, T.Chikyow, O.Ishiyama, M.Shinohara, H.Koinuma.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Jpn. J. Appl. Phys.

巻, 号, ページ

Vol. 34 No. 6A pp. 2688

出版年月

1995年

出版者

和文:
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会議名称

和文:
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開催地

和文:
英文: