Ultra-thin Ga<sub>&lt;small&gt;x&lt;/small&gt;</sub>In<sub>&lt;small&gt;1-x&lt;/small&gt;</sub>As/InP (0&lt;x&lt;0.47) layer growth by chemical beam epitaxy

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Ultra-thin Ga_{<small>x</small>}In_{<small>1-x</small>}As/InP (0<x<0.47) layer growth by chemical beam epitaxy

著者

和文:	Noriyuki Yokouchi, Toshikazu Uchida, Takashi Uchida, 宮本智之, 小山二三夫, Kenichi Iga.
英文:	Noriyuki Yokouchi, Toshikazu Uchida, Takashi Uchida, Tomoyuki Miyamoto, FUMIO KOYAMA, Kenichi Iga.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

1991年4月

出版者

和文:
英文:

会議名称

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英文:	3rd Int. Conf. on Indium Phosphide and Related Materials

開催地

和文:
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