Lu<sub>2</sub>O<sub>3</sub>薄膜形成における基板表面処理の効果 | T2R2 東京工業大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	Lu₂O₃薄膜形成における基板表面処理の効果
英文:

著者

和文:	武田光弘, 大見俊一郎, 石原宏, 岩井洋.
英文:	武田光弘, 大見俊一郎, 石原宏, 岩井洋.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	第49回応用物理学会関係連合講演会講演予稿集
英文:

巻, 号, ページ

Vol. 2 pp. 837

出版年月

2002年

出版者

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会議名称

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開催地

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英文:

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