むだ時間を有するプロセスに対する離散時間スライディングモード制御と半導体製造用クーリングプレートへの適用 | T2R2 東京科学大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	むだ時間を有するプロセスに対する離散時間スライディングモード制御と半導体製造用クーリングプレートへの適用
英文:

著者

和文:	板東賢一, 福原　聡, 横田　眞一.
英文:	板東賢一, 福原　聡, 横田　眞一.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	日本機械学会論文集
英文:

巻, 号, ページ

Vol. 69 No. 682 pp. 1578-1594

出版年月

2003年

出版者

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会議名称

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開催地

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