Deposition of Poly-Si and SiGe Thin Films at 450oC by Reactive Thermal CVD and their TFT Application, Tech. Digest AM-LCD ’03, pp83-86 (2003)

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Deposition of Poly-Si and SiGe Thin Films at 450oC by Reactive Thermal CVD and their TFT Application, Tech. Digest AM-LCD ’03, pp83-86 (2003)

著者

和文:	Jun-ichi Hanna, JuanJin Zhang, Jeong-Woo Lee, Kousaku Shimizu.
英文:	Jun-ichi Hanna, JuanJin Zhang, Jeong-Woo Lee, Kousaku Shimizu.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Tech. Digest AM-LCD '03

巻, 号, ページ

pp. 83-86

出版年月

2003年

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

和文:
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