Low-temperature Growth of Poly-Si and SiGe Thin Films by Reactive Thermal CVD and Fabrication of High Mobility TFTs over 50 cm2/Vs

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Low-temperature Growth of Poly-Si and SiGe Thin Films by Reactive Thermal CVD and Fabrication of High Mobility TFTs over 50 cm2/Vs

著者

和文:	Jun-ichi Hanna, Kousaku Shimizu.
英文:	Jun-ichi Hanna, Kousaku Shimizu.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Mat. Res. Soc. Spring Meeting, San Francisco

巻, 号, ページ

出版年月

2003年

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

和文:
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