A Study on Etching of SiGe Layers in SiGe/Si Systems for Device Applications

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	A Study on Etching of SiGe Layers in SiGe/Si Systems for Device Applications

著者

和文:	Takashi Yamazaki, Tomohide Sekikawa, Shinya Morita, Yoshitaka Hakamada, Hiroyuki Ohri, Shun-ichiro Ohmi, Tetsushi Sakai.
英文:	Takashi Yamazaki, Tomohide Sekikawa, Shinya Morita, Yoshitaka Hakamada, Hiroyuki Ohri, Shun-ichiro Ohmi, Tetsushi Sakai.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Material Research Society Fall Meeting Abstracts

巻, 号, ページ

pp. 572

出版年月

2003年12月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文:	Boston, USA