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タイトル
和文: 
英文:Si epitaxy below 400゜C from fluorinated precusors SiF┣D2n┫D2H┣D2m┫D2(┣D2n┫D2+┣D2m┫D2≦3) under in situ observation with ellipsometry 
著者
和文: 清水勇.  
英文: ISAMU SHIMIZU.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Jpn. J. Appl. Phys. 
巻, 号, ページ Vol. 33    No. 2    pp. 956-961
出版年月 1994年 
出版者
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会議名称
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開催地
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英文: 

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