A New Photoresist Materials for 157 nm Lithography-3: Poly[2-hydroxy-3-pianyl vinyl sulfonate-co-4-(1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2- Hydroxypropyl)styrene H. Iimori, S. Ando, Y. Shibasaki, S. Kishimura, M. Endo, M. Sasago, M. Ueda
著者
和文:
H. Iimori,
S. Ando,
Y. Shibasaki,
S. Kishimura,
M. Endo,
M. Sasago,
M. Ueda.
英文:
H. Iimori,
S. Ando,
Y. Shibasaki,
S. Kishimura,
M. Endo,
M. Sasago,
M. Ueda.
各種検索
サポート
ヘルプ