ホットワイヤーCVD 法によるSi:H 薄膜作製時のH<sub>2</sub>希釈効果に関する考察 | T2R2 東京工業大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	ホットワイヤーCVD 法によるSi:H 薄膜作製時のH₂希釈効果に関する考察
英文:

著者

和文:	檜座秀一, 富田充朗, 山田　明, 小長井　誠.
英文:	檜座秀一, 富田充朗, 山田　明, 小長井　誠.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

pp. 30a-X-10

出版年月

2006年

出版者

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会議名称

和文:	第67回応用物理学関係連合講演会
英文:

開催地

和文:
英文:

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