Growth of Strain Relaxed Si<sub>1-y</sub>C<sub>y</sub> films using SOI substrates

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Growth of Strain Relaxed Si_1-yC_y films using SOI substrates

著者

和文:	M. Murano, H. Ishihara, A. Yamada, M. Konagai.
英文:	M. Murano, H. Ishihara, A. Yamada, M. Konagai.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

pp. *

出版年月

2006年

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	14th International Conference on Molecular Beam Epitaxy (MBE2006)

開催地

和文:
英文:	Tokyo, Japan